j9九游会全球光刻机行业简述随着物联网高速发展，芯片不限用于手机和电脑，已涉及生活日常用品中如冰箱、洗衣机、空调和电视等物品。

　　1965年，英特尔公司创始人之一戈登摩尔博士提出摩尔定律，预言半导体集成电路密度每年将会翻倍，此定律为半导体领域的原生驱动力。60年代末，日本佳能与尼康进入光刻机领域。

　　1984年4月，ASML正式成立。1985年ASML与蔡司（Zeiss）公司合作改进光学系统，凭借PAS-2500产品占有10%市场份额。

　　2002年，台积电公司林本坚博士提出“浸没式光刻机技术”，打破困扰全球光刻机领域发展长达20多年无法突破193nm光源的技术难题。

　　2010年ASML公司成功研发首台EUV光刻机NXE：3100，利用EUV极紫外光刻技术突破10nm的关键。

　　目前为止，ASML凭借EUV光刻机，成为光刻机领域超高端市场的垄断企业，最新EUV极紫外光技术能达到5nm精度。光刻机领域未来竞争格局难以改变。

　　ASML独特规定：唯有注资ASML公司成为股东之一的企业，才能获得优先供货权。ASML公司最大股东为资本国际集团，第二大股东为美国贝莱德集团，前两大股东均为美国资本，ASML已是不折不扣美系资金企业。EUV光刻机每个关键零部件均使用世界最先进技术，ASML光刻机中超过90%零件都是向外采购。美国和德国向ASML提供最为核心超精密机械支持以及光学技术，美国可直接在源头端参与控制ASML公司运营。多年来美国利用“长臂管辖权”j9九游，不断限制中国光刻机领域发展，不允许任何半导体企业向中国供应半导体技术，从而抑制中国半导体行业发展速度。2018年，中芯国际向ASML提出购买7nmEUV光刻机意向，但因遭受美国贸易管制阻挠，此交易始终未能完成。

　　高精密光学镜片是光刻机核心部件之一，高数值孔径的镜头决定光刻机分辨率以及套值误差能力，EUV极紫外光刻机唯一可使用的镜头由卡尔蔡司生产。

　　高性能光刻机需要体积小、功率高和稳定的光源，主流EUV光源为激光等离子光源（LPP），目前只有美国厂商Cymer和日本厂商Gigaphoton才能够生产。

　　2019年台积电以51%的市场占有率处于绝对领先的地位，三星和格芯分列第二、第三，中国厂商中芯国际暂列第五。

　　中芯国际是全球领先的集成电路晶圆代工企业之一，中国技术最先进、 规模最大、配套服务最完善的专业晶圆代工企业，中芯国际推出中国最先进24纳米NAND、40纳米高性能图像传感器等特色工艺，是国内第一家实现14纳米FinFET量产的晶圆代工企业，代表中国自主研发集成电路制造技术的最先进水平。

　　上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)成立于2002年，主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。官方公告将在2021-2022年交付第一台28nm制程工艺中国沉浸式光刻机 ，中国光刻机将从90nm一举突破28nm工艺 。