j9九游2023年国内光刻机行业发展现状及发展趋势光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

　　光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

　　光刻机是半导体制造中关键的工具，用于将光线通过掩模模板，将图案转移到光刻胶或薄膜上。根据光刻机的使用方式和技术原理，可以将其分为以下几类：接触式光刻机(Contact Lithography)：这是最早出现的光刻技术，其原理是将掩模与光刻胶直接接触，然后使用光源照射，使得图案被传递到光刻胶上。由于接触式光刻机的分辨率有限，主要用于制造较大尺寸的芯片。紫外光刻机(Ultraviolet Lithography)：紫外光刻机利用紫外光作为光源，通过透镜或反射镜将光线聚焦到掩模上，再通过投影光学系统将图案投射到光刻胶上。

　　紫外光刻机具有较高的分辨率和精度，是当前主要的光刻技术。电子束光刻机(Electron Beam Lithography)：电子束光刻机使用聚焦的电子束代替光源，通过扫描电子束并控制其位置和强度，将图案逐点地写入光刻胶中。电子束光刻机具有极高的分辨率和精度，适用于制造高精度的芯片和纳米结构。X射线光刻机(X-ray Lithography)：X射线光刻机使用X射线作为光源，其波长比紫外光更短，能够实现更高的分辨率。然而，X射线光刻机的设备复杂性和成本较高，目前仅用于一些特殊应用领域。深紫外光刻机(Deep Ultraviolet Lithography)：深紫外光刻机是一种改进的紫外光刻技术，使用更短波长的紫外光源，可以实现更高的分辨率和更小的特征尺寸。

　　《国家集成电路产业发展推进纲要》，提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备，开发光刻胶、大 尺英寸硅片等关键材料”;《国务院关于印发“十三五”国家科技创新规划的通知》提出“突破28纳米浸没式光刻机及核心部件”等政策规划为光刻机产业的发展提供了良好的政策发展环境。

　　光刻机涉及的内部零件种类众多，且越高端的光刻机组成越复杂，如EUV内部零件多达8万件以上，其核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等，其中光源、晶圆曝光台、物镜和对准系统的技术门槛较为显著。因此，光刻机企业往往具备高外采率、与供应商共同研发的特点，而其下游应用主要包括芯片制造、功率器件制造、芯片封装等。

　　中国显示驱动芯片封测行业经历了一段历时三年的快速增长期，尤其是2021年增幅最为迅速，较上一年增长超过40%，达到56.10亿元。未来，中国显示驱动芯片封测市场规模将回落至正常增长区间内，但得益于集成电路国产替代和显示产业链向转移的趋势将不断加强，根据数据显示，2022年中国显示驱动芯片封装测试行业市场规模保持9%以上的快速增长，市场规模约为61.2亿元。

　　全球半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展,带动相关芯片的需求,2020年光刻机销售额与销量增速稳定提升。2020年全球光刻机销量为413台，随着下游市场需求持续升高，2022全球市场仍将持续增长，销量约为510台。从产品结构来看，销量最多的是i-Line，占比达34%。其次分别为KrF、ArF immersio、Arf dryj9九游会官方网站、EUV，占比分别为31%、19%、8%及8%。

　　中国光刻机行业市场规模总体呈现上涨态势，其市场规模在2020年迎来大幅上涨，2020年是中国5G商用元年，5G网络建设对于芯片需求的增加带动了光刻机市场的扩大。5G技术的广泛应用需要大量的高性能芯片，而光刻机是芯片制造的关键设备之一，因此5G建设的推动促进了光刻机市场的增长。另一方面，中国正努力加快半导体产业的发展，提升自主创新能力。半导体是光刻机的主要应用领域之一，中国政府出台一系列政策支持半导体产业，包括资金支持、税收优惠等，刺激了国内半导体制造业的发展，进而推动了光刻机市场规模的上涨。2022年中国光刻机行业市场规模约为147.82亿元。从区域分布来看，中国光刻机行业华东地区占比最重，占比为51.8%。

　　根据中研普华产业研究院发布的《2023-2028年国内光刻机行业发展趋势及发展策略研究报告》分析

　　光刻机行业属于明显的寡头垄断格局，前三供应商(荷兰阿斯麦、日本佳能、日本尼康)占据绝大多数市场份额。从营收来看，尼康占比84%，佳能占比9%，阿斯麦占比7%。2022年光刻机市占率按出货量来看 ，阿斯麦占比63%排名第一，佳能占比32%排名第二，尼康占比5%排名第三。

　　相比之下，我国光刻机技术长期处于落后状态，光刻设备需要长期大量依赖进口，同时由于光刻机属于高精端产品，其产能有限。因此，从层面来讲，核心技术必须做到独立自主，相关政策也持续推出。

　　我国对于光刻机行业较为重视。对于整个IC产业链企业的政策优待以及对于半导体设备行业的相关规划与推动。其主要表现在资金方面的补助和人才方面的培养，以及进出口，投融资方面的政策扶持。

　　全球半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展,带动相关芯片的需求。伴随着成为世界电子产业核心，中国目前已经成为最大的半导体市场，并且继续保持最快的增速。光刻机作为芯片产业链上游的重要组成部分，受此影响得到大力推动。、

　　目前光刻机市场主要有国外的三个企业所垄断，随着中国代工厂的不断扩建，未来对于国产光刻机的需求不断提升，而当前国内与国外顶尖光刻机制程仍存在较大差距。但为应对国外技术出口管制风险，国产光刻机需求上涨，推动行业加速发展。

　　了解更多本行业研究分析详见中研普华产业研究院《2023-2028年国内光刻机行业发展趋势及发展策略研究报告》。同时, 中研普华产业研究院还提供产业大数据、产业研究报告、产业规划、园区规划、产业招商、产业图谱、智慧招商系统、IPO募投可研、IPO业务与技术撰写、IPO工作底稿咨询等解决方案。

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